ATAブランド
ギンブルマルチコーターAT-903
本体とダイヤフラムポンプ
ギンブル機構(特許出願済)
タッチパネル操作画面
特徴
全方位揺動(ギンブルモーション)ステージにより回り込みが良いコーティングが可能
完全ドライ排気により試料の汚染防止(ターボ分子ポンプ+ダイヤフラムポンプ)
Cr,ITO,Cu,Ni,Pt,Au,Mo,W等多種類のターゲット使用可能
特殊シャッター機能により試料の熱損傷を抑制
ヘッド数1又は2を選択出来ます
<オプション>
プラズマクリーニング(本体オプション)により有機系異物除去・表面親水化処理可能
カーボンコーティングアタッチメント(オプション)によりカーボン被膜生成が可能(現在製作中)
<タッチパネル動作画面>
タッチパネルによる操作・動作画面紹介
仕様
スパッタリング 方式 | DCマグネトロンスパッタリング 放電電圧:DC 1500V max 放電電流:DC 50mA max |
ターゲット(別売) | Cr、ITO、Cu、Ni、Pt、Au、Mo、Wなどオプションとして各種ターゲットを用意 |
使用ガス | Air、Ar |
到達真空圧 | 10 |
チャンバー内寸 | φ100mm (1ヘッド)、φ127mm (2ヘッド) |
試料ホルダー | φ50mm (1ヘッド)、φ85mm (2ヘッド) |
揺動角度 | 0~20° |
真空排気 | 主排気:ターボ分子ポンプ(本体内蔵) 補助排気:ダイヤフラムポンプ(外置き) |
寸法 | 本体 360W×415D×480H (1ヘッド) 360W×450D×500H (2ヘッド) ダイヤフラムポンプ 145W×223D×217H |
重量 | 本体 約30kg ダイヤフラムポンプ 4kg |
電源 | AC 100V/200V(出荷時選択) 15A |
コーティング例
◆ギンブル効果
ギンブル動作下で、凹凸のある試料表面上に均一薄膜がつけられます
(下図、ろ紙表面SEM写真)。
倍率x50,000倍
ギンブルモーション動画
◆ 他社との粒状性能比較 (試料:スライドガラス 倍率:×100,000)
(他社)
(ATA)
◆ コーティング膜粒状性の違い例 (AFM像)
ガラス基板上の膜厚 10nm クロム膜
ガラス基板上の膜厚 9nm 白金膜
粒状が良い状態でCr非晶質膜及び白金再結晶化膜が出来ている事がわかります。
🔹ヘッド形状(選択可)
1ヘッドタイプ
2ヘッドタイプ
🔹クリーニング(オプション)
クリーニング機構
※本装置の仕様及びデザイン等は、改良のため予告なく変更されることがありますのでご了承下さい。
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